霍爾離子源應(yīng)用于光學(xué)鍍膜機(jī)加裝, 實(shí)現(xiàn)預(yù)清潔 PC, 輔助鍍膜 IBAD
光學(xué)鍍膜 optics coating, 在現(xiàn)代生產(chǎn)被廣泛應(yīng)用, 例如玻璃鍍膜, 鏡片鍍膜, 顯微鏡鏡片鍍膜, 裝飾燈罩鍍膜都是生產(chǎn)工藝之一. 蒸發(fā)鍍膜作為一種常見的制程, 比較容易出現(xiàn)膜層不均勻, 或是產(chǎn)品膜層脫落的現(xiàn)象, 使用美國(guó) KRI考夫曼離子源可以解決此類問題, 因此美國(guó) KRI 考夫曼霍爾型離子源廣泛加裝在各類蒸發(fā)鍍膜機(jī)中

離子源輔助鍍膜客戶案例一: 廈門某光學(xué)鍍膜企業(yè), 該企業(yè)使用日本 Shincron 真空鍍膜機(jī), 鍍膜腔體約 2 m³  , 鍍膜機(jī)加裝霍爾離子源 EH 4200 起到預(yù)清潔 PC及輔助鍍膜 IBAD 的作用.

離子源輔助鍍膜具體操作, 霍爾離子源預(yù)清潔 PC +輔助鍍膜 IBAD : 由于膜層表面很光滑,在鍍膜時(shí)會(huì)產(chǎn)生膜層脫落現(xiàn)象, 預(yù)清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar 打擊表面, 使得制程物能吸附在表面上. 加裝KRI霍爾離子源起到預(yù)清潔作用, 在預(yù)清潔后開啟離子源輔助鍍膜 IBAD, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高。
工作示意圖如下, KRI離子源覆蓋面


使用專業(yè)測(cè)膜記號(hào)筆, 可以明顯看出加裝 KRI 離子源前后有很大的不同


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.

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