上海伯東美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源 EH 5500 成功應用于手機殼顏色鍍膜和3D玻璃鍍膜, 湖南某手機鍍膜制造商經(jīng)過我司推薦采用大尺寸考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜.

考夫曼離子源客戶案例: 國內(nèi)某手機鍍膜制造商
1. 離子源應用: 手機殼顏色鍍膜, 3D 玻璃鍍膜生產(chǎn).
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界較高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設計所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達到更高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的手機殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
氣體分子離子轉化率高, 離子束工作穩(wěn)定
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模塊化設計, 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
全自動控制設計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易

                   EH 5500 離子源本體

                    EH 5500 離子源控制器

上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式：
上海伯東：葉女士                             臺灣伯東：王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                      F: +886-03-567-0049
M: +86 1391-883-7267                   M: +886-939-653-958
qq:2821409400