美國 KRI 離子源應(yīng)用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠鏡鏡片全反射膜
上海伯東代理美國 KRI 大尺寸霍爾離子源 EH 3000 HC, 離子束具有業(yè)界中更高廣角的涵蓋面積及更高密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以獲得高均勻性及高致密性的膜層. EH 3000 HC 近日成功應(yīng)用于直徑 2.2m 蒸鍍機, 用于蒸鍍 1.5m 天文望遠鏡鏡片. 通過使用上海伯東 KRI 離子源鍍?nèi)瓷淠? 高均勻性及高致密性的膜層可以保障光源反射, 盡可能減少吸收. 直徑 2.2m 鍍膜腔, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業(yè)成本!

上海伯東離子源蒸鍍典型案例: 根據(jù)客戶 2.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和工藝條件, 推薦選用霍爾離子源 eh3000 HC, 配置中空陰極, 中和器, 自動控制器
1. 設(shè)備: 2.2m 蒸鍍鍍膜機.
2. 基材: 1.5m 天文望遠鏡鏡片鍍鋁 Al, 最外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護膜
3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
4. 離子源應(yīng)用: 天文望遠鏡鏡片鍍?nèi)瓷淠? 約3個小時; 保障光源反射, 盡可能減少吸收.

霍爾離子源 EH 3000 HC 主要技術(shù)參數(shù)

尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6” 放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A 可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 離子束發(fā)散角度：> 45° (hwhm) 水冷

 
類似應(yīng)用: 汽車頭燈模塊鍍?nèi)瓷淠? 使發(fā)光源的光全部反射出去照亮

美國 KRi 霍爾離子源憑借高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強度及濃度, 已廣泛應(yīng)用于離子輔助鍍膜 IBAD , 獲得高質(zhì)量的膜層. 上海伯東美國 KRi 霍爾源可依客戶鍍膜機尺寸, 基材尺寸及工藝條件選擇對應(yīng)型號: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
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