大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).

KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計
3. 離子光學(xué), 自對準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計, 自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用


射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:

陽極	電感耦合等離子體 2kW & 1.8 MHz 射頻自動匹配
最大陽極功率	>1kW
最大離子束流	> 1000mA
電壓范圍	100-1500V
離子束動能	100-1200eV
氣體	Ar, O2, N2,其他
流量	5-50sccm
壓力	< 0.5mTorr
離子光學(xué), 自對準(zhǔn)	OptiBeamTM
離子束柵極	38cm Φ
柵極材質(zhì)	鉬
離子束流形狀	平行,聚焦,散射
中和器	LFN 2000 or RFN
高度	38.1 cm
直徑	58.2 cm
鎖緊安裝法蘭	12”CF

射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:


上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機(jī), 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領(lǐng)域.

作為蝕刻機(jī)的核心部件, KRI  射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!


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