氦質(zhì)譜檢漏儀電子束光刻機檢漏
上海伯東客戶某光刻機生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件, 通信設(shè)備等多個領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn). 經(jīng)過伯東推薦采購氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 用于電子束光刻機腔體檢漏.

電子束光刻機腔體需要檢漏
電子束光刻機內(nèi)部腔體使用分子泵, 離子泵抽真空, 通過全量程真空計 PKR 251 監(jiān)測真空度, 腔體需要維持真空度在 10-9 Pa 至 10-11 Pa, 如果腔體有漏導(dǎo)致真空度不夠, 會影響設(shè)備性能, 因此需要對整個腔體進(jìn)行泄漏檢測.

電子束光刻機腔體檢漏方法
上海伯東推薦客戶使用前級泵為干泵的便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 進(jìn)行泄漏檢測.
當(dāng)真空度達(dá)到 15 hPa 時, 在腔體周圍懷疑有漏的位置吹掃一定量的氦氣, 同時啟動便攜式檢漏儀 ASM 310 開始檢漏, 真空模式下, 設(shè)置漏率值 1x10-13 Pa m3/s, 若有檢測到實際漏率大于設(shè)定值, 檢漏儀會報警提醒同時操作界面顯示漏率值, 從而可以定位定量判斷腔體泄漏位置, 完成整個腔體的泄漏檢測.
便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 是目前市場上同類型檢漏儀最輕便緊湊的產(chǎn)品
對氦氣的最小檢測漏率
真空模式 5E-13 Pa m3/s
吸槍模式 1E-8 Pa m3/s
對氦氣的抽氣速度 1.1 l/s

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