氦質(zhì)譜檢漏儀 PECVD 檢漏
上海伯東代理德國 Pfeiffer 多功能多用途氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 成功應(yīng)用于 PECVD 設(shè)備檢漏

PECVD: ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 等離子體增強化學(xué)氣相沉積法 )是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離, 在局部形成等離子體, 而等離子體化學(xué)活性很強, 很容易發(fā)生反應(yīng), 在基片上沉積出所期望的薄膜. 為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行, 利用了等離子體的活性來促進反應(yīng), 因而這種 CVD 稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積 (PECVD).

PECVD 檢漏原因: PECVD 工作環(huán)境需要兩個必要條件: 低溫和真空, 由于 PECVD 結(jié)構(gòu)復(fù)雜, 組成部分較多, 各組件通過各種法蘭接口連接, 當(dāng)長時間運行時可能造成接口或管路松動, 設(shè)備漏氣, 導(dǎo)致真空度抽不下來, 影響沉積薄膜的質(zhì)量, 這時就需要通過檢漏來排查漏點. 常規(guī)的檢漏如涂肥皂水等方法, 耗時耗力且精度低, 容易受操作人員干擾, 所以利用氦質(zhì)譜檢漏儀的排查方法越來越廣泛使用.

上海伯東 PECVD 設(shè)備檢漏儀客戶案例一: 中科院某研究所, 通過采購上海伯東德國 Pfeiffer 機械泵 Pfeiffer DUO 20 和分子泵 Hipace 1200 聯(lián)用獲得穩(wěn)定的高真空并追加采購檢漏儀, 滿足日常檢漏需要.
PECVD 檢漏方法: 采用檢漏儀的真空法進行檢漏, 對懷疑有漏的地方噴氦氣, 如果檢漏儀報警, 則表明此處有漏! 伯東客戶中科院某研究所目前現(xiàn)有多臺舊款 Adixen ASM 142 檢漏儀, 因為設(shè)備增加, 在經(jīng)過工程師推薦后采購檢漏儀 ASM 340.

上海伯東 PECVD 設(shè)備檢漏儀客戶案例二: 某電子材料有限公司生產(chǎn)太陽能硅片, 高效 N型太陽能電池等, 生產(chǎn)設(shè)備采用荷蘭TEMPRESS PECVD, 依照工藝要求, 在1分鐘的測試時間內(nèi), 壓力變化不能超過 4mtorr, 否則就要檢漏. 氦質(zhì)譜檢漏儀主要用來定位漏點, 針對進出氣管道, 焊接處, 法蘭都位置進行檢漏 ,一般漏率要求在 1.0×10-8 mbarl/s.


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