上海 KRi 考夫曼離子源應用
| No. | 標題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
|---|---|---|---|
| 1 | KRI 射頻離子源應用于多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter | 2025-03-01 | 93 |
| 2 | KRI 離子源應用于電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam Evaporation System | 2025-03-01 | 81 |
| 3 | KRI 離子源應用于磁控共濺鍍設(shè)備 Co-sputter | 2025-03-01 | 59 |
| 4 | 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源簡介 | 2024-09-04 | 64 |
| 5 | KRI 離子源應用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備 UHV Sputter | 2025-03-01 | 56 |
| 6 | KRI 離子源應用于超高真空電子束蒸鍍設(shè)備 UHV E-beam System | 2025-03-01 | 50 |
| 7 | KRI 離子源應用于有機材料熱蒸鍍設(shè)備 OLED, OPV | 2025-03-01 | 62 |
| 8 | KRi 射頻離子源 RFICP 100 應用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機 IBSD | 2025-03-01 | 54 |
| 9 | 美國 KRi 離子源常見工藝應用 | 2025-03-01 | 46 |
| 10 | KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用 | 2025-04-25 | 70 |