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標題 |
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閱讀數(shù) |
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KRI 射頻離子源應用于多層膜磁控濺鍍設備 Multilayer sputter |
2025-03-01 |
93 |
| 2 |
KRI 離子源應用于電子束蒸鍍設備 E-beam Evaporation System |
2025-03-01 |
81 |
| 3 |
KRI 離子源應用于磁控共濺鍍設備 Co-sputter |
2025-03-01 |
59 |
| 4 |
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源簡介 |
2024-09-04 |
64 |
| 5 |
KRI 離子源應用于超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter |
2025-03-01 |
56 |
| 6 |
KRI 離子源應用于超高真空電子束蒸鍍設備 UHV E-beam System |
2025-03-01 |
50 |
| 7 |
KRI 離子源應用于有機材料熱蒸鍍設備 OLED, OPV |
2025-03-01 |
62 |
| 8 |
KRi 射頻離子源 RFICP 100 應用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機 IBSD |
2025-03-01 |
54 |
| 9 |
美國 KRi 離子源常見工藝應用 |
2025-03-01 |
46 |
| 10 |
KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用 |
2025-04-25 |
70 |
上海